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编译服务: 集成电路 编译者: shenxiang 发布时间: Oct 16, 2020 点击量: 496

据日经亚洲评论报道,富士胶片 (Fujifilm Holdings)和住友化学(Sumitomo Chemical)最早将于2021年开始供应用于下一代芯片制造的光刻胶,该材料可能有助于让智能手机及其他设备朝更小、更节能化的方向发展。 据悉,这两家日本公司正在研制一种特殊的EUV(极紫外)光刻胶。

目前,日本JSR和信越化学株式会社等控制了全球大约90%的EUV光刻胶市场。新厂商的加入预计将加剧EUV光刻胶市场的竞争。其中,富士胶片将投资45亿日元(4260万美元)用于日本静冈县的生产设备,该厂最早将于明年开始量产。该公司表示,下一代光刻胶技术有助于减少残留物,从而提高芯片的良率。与此同时,住友化学计划在2022财年之前,为大阪的一家工厂投入从研发到生产的全部光刻胶产能。报道指出,该公司在传统光阻剂市场上拥有巨大的份额,因而该公司已与一家大型制造商达成了一项初步供应协议。目前市场上最先进的芯片采用5纳米工艺,台积电等厂商正致力于将3nm制程商业化,而解决EUV光刻胶的难题则是推进芯片制造技术的最关键途径。

 

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