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编译服务: 集成电路 编译者: Lightfeng 编译时间: Aug 26, 2018 浏 览 量: 1

在SEMICON台湾2018展会(9月5日至7日)的J2734展台举行的一系列技术讲座中,QuantumClean和ChemTrace展示了他们的超高纯度清洁技术、专有涂层和微污染分析测试来帮助降低晶圆制造成本(CoO)。

QuantumClean和ChemTrace简要介绍了原子层沉积(ALD)、化学气相沉积(CVD)、扩散、蚀刻、离子注入和物理气相沉积(PVD)超高纯度清洁以及零件质量监控的解决方案,并且指导原始设备制造商(OEM),集成设备制造商(IDM),原始产品制造商(OPM)和代工厂如何减少晶圆制造成本。

昆腾全球技术公司总裁兼首席执行官Scott Nicholas说:“SEMICON台湾2018的参观者可以在我们的J2734展台参加技术讲座中了解到我们的服务产品,了解我们如何通过解决关键的半导体工艺室部件这一挑战来改善您的运营。”

  
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