用户,您好,欢迎您进入NSTL重点领域信息门户! 登录 | 注册  帮助中心
重点领域信息门户
您当前的位置: 首页 > [2019年第7期]情报条目详细信息

编译内容

编译服务: 集成电路 编译者: Lightfeng 编译时间: Apr 8, 2019 浏 览 量: 5

德国光通信仿真软件公司VPIphotonics GmbH表示,通过使用瑞士洛桑LiGenTec SA的全氮化物(AN)技术,设计人员可以从图形光子集成电路(PIC)设计和系统模拟环境开始的工作流程中获益,该工作流程与用于脚本式布局设计和DRC功能的布局设计工具无缝耦合。新的工作流程是由LiGenTec和VLC Photonics参考设计,通过VPIphotonics的仿真软件使用完成的制造芯片的测量结果来验证。

这个工作流程由新的VPItoolkit PDK LIGENTEC实现,该工具包是VPIcomponentMaker光子电路的可插拔工具包的扩展,增加了LiGenTec提供的800nm氮化硅工艺AN800对专用穿梭和支持多工程晶圆(MPW)的运行。

由于模式完全限制在波导中,AN800工艺支持的厚氮化硅波导与800nm LPCVD氮化硅提供非常紧密的弯曲半径(10匝<0.005dB),耦合损耗非常低(<1.5dB / facet),非常低的传播损耗(<0.1dB / cm)和非常高的功率处理(测试高达10W)。

VPIcomponentMaker光子电路是一种用于大规模PIC的仿真和设计环境,具有大量通用光子、电气、光电器件模型、电路优化和良率分析功能。VPItoolkit PDK LIGENTEC为AN800工艺支持的标准构建模块添加了代工厂认证的仿真紧凑模型,并支持布局感知的原理图驱动PIC设计工作流程,包括根据其所需光学功能进行芯片布局优化。重要的是,它允许设计人员构建自己的分层和自定义构建块,有效地扩展代工PDK以满足个性化需求。设计的PIC的布局可以由Luopsa Photonics自动导出到IPKISS或由Synopsys自动导出到OptoDesigner,用于DRC验证和GDS掩码生成。

  
提供服务
导出本资源