国际设备与系统路线图（IRDS）2024：计量学
- 编译时间：2025-07-16
- 来源机构：国际电气与电子工程师学会
- 编译者：李晓萌
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近日，国际电气电子工程师学会（IEEE）发布《国际设备与系统路线图（IRDS）2024：计量学》报告，重点阐述了半导体行业在设备、系统及新材料集成领域涌现的测量技术挑战，并提出了相应的研发路径。其研究范畴涵盖（但不限于）：传统互补金属氧化物半导体（Complementary Metal Oxide Semiconductor，简称CMOS）工艺扩展的测量需求、后CMOS技术的加速发展、新型通信器件/传感器/换能器的表征技术、材料特性分析以及结构-功能关系研究，同时包含研发阶段与制造过程控制所需的计量学创新突破。
该技术路线图致力于解决测量科学领域的关键挑战，推动新型计量技术发展，并就未来设备与材料的工艺控制及可制造性评估，系统性地提出长期技术展望——包括核心挑战、潜在解决方案、关键技术、工具开发及基础设施需求等维度。
该章节内容可为计量专家、设备制造商及研究人员提供技术指导，同时也可作为标准组织制定关键测量标准的基础依据。通过建立统一的技术基准，将有效推动半导体行业的技术进步。
原文题目：INTERNATIONAL ROADMAP FOR DEVICES AND SYSTEMS TM 2024 METROLOGY
原文链接： https://irds.ieee.org/images/files/pdf/2024/2024IRDS_MET.pdf
参考链接： https://www.nist.gov/publications/international-roadmap-devices-and-systems-tm-2024-metrology
发布时间：2025-07-09
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所属服务：计量基标准与精密测量
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